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    以带动该基板20由该喷洒装置50下端部朝向该风刀装置40的该***风刀41下端部的方向移动。该风刀装置40设置于该挡液板结构10的一端部,该风刀装置40包括有一设置于该基板20上方的

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    以及一设置于基板下方的第二风刀,其中***风刀与第二风刀分别吹出一气体至基板。如上所述的蚀刻设备,其中蚀刻设备可进一步设置有一喷洒装置,喷洒装置相对于风刀装置一端而设置于挡液板结构的

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    所述抽真空气体修饰法包括如下步骤:将将衬底和光刻胶抗粘剂置于密闭空间中,对密闭空间抽真空至光刻胶抗粘层气化,保持1分钟以上,直接取出衬底。进一步的改进,所述衬底为硅、氧化硅、石英、玻

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